1. 将过夜培养的酵母菌培养液接种到5 ml YPD培养基中,于30℃培养。离心5~10 s,用1 ml 无菌水重悬沉淀细胞,重复洗涤1次,再用1 ml 无菌水重悬。
2. 检查细胞密度,记录数据后将细胞密度调整到2×10 8 细胞/ml。用无菌水系列稀释细胞悬液,最终确定在平板上生长出100~200个菌落的稀释度。在平板上分别涂布0.1 ml 和0.2 ml 释的菌悬液。
3. 紫外灯在使用前要预热≥20 min。移去培养皿的盖直接照射。每套平板除留2个平板作对照外均进行照射,照射剂量为3×10 -6 J/mm 2 ,细胞存活率为40%~70%。(没有照射的平板充当对照以计数菌落玻杀死的比例)
4. 作为对照,将0.1 ml 未诱变的菌悬液涂布于2块同样的刀豆氨酸平板上,按步骤3测定的时间照射其中一块平板,从抗刀豆氨酸的菌落计算经UV照射或未经UV照射所得到的突变频率。
5. 在23℃培养步骤2中的平板,直到生长菌落为止,筛选温度敏感突变株。